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　　证券之星消息，根据天眼查APP数据显示广立微（301095）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种识别光刻缺陷热点图形的方法及图形结构”，专利申请号为CN1.2，授权日为2025年6月13日。

　　专利摘要：本发明提供了识别光刻缺陷热点图形的方法，包括：确定版图的待识别层；预设宽度范围，识别初始边；预设RightSpace范围和LeftSpace范围，识别Edge_out；将所述plg_out中，满足一侧边为Fit_width_e_LSW且另一侧边为Fit_width_e_RSW的多边形区域识别为plg_out_plus，即目标图形。本发明的方法能快捷准确的识别出光刻缺陷图形，利于改进生产工艺，步骤简洁。本发明还提供了一种光刻缺陷热点图形结构，能快速辨别图形是否有引起光刻缺陷风险。

　　今年以来广立微新获得专利授权38个，较去年同期增加了58.33%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.77亿元，同比增33.49%。

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